Componentes de vacío de alta temperatura
El tratamiento térmico incluye principalmente procesos de oxidación, difusión y recocido.La oxidación es un proceso aditivo en el que se colocan obleas de silicio en un horno de alta temperatura y se agrega oxígeno para reaccionar con ellas y formar sílice en la superficie de la oblea.La difusión consiste en mover sustancias desde el área de alta concentración a la región de baja concentración mediante movimiento térmico molecular, y el proceso de difusión se puede utilizar para dopar sustancias dopantes específicas en el sustrato de silicio, cambiando así la conductividad de los semiconductores.
